Elektrokimyasal yöntemle ZnO ince film üretimi ve karakterizasyonu

---

Tezin Türü: Yüksek Lisans

Tezin Yürütüldüğü Kurum: Çukurova Üniversitesi, Fen Bilimleri Enstitüsü, Fizik, Türkiye

Tezin Onay Tarihi: 2016

Tezin Dili: Türkçe

Öğrenci: Renna Taktakoğlu

Asıl Danışman (Eş Danışmanlı Tezler İçin): HAMİDE KAVAK

Açık Arşiv Koleksiyonu: AVESİS Açık Erişim Koleksiyonu

Özet:

Oldukça ekonomik elektrokaplama yöntemi geliştirilerek ZnO nanorod yapılar üretilmiştir. Büyütme işlemi standart DC güç kaynağı, mili ampermetre ve iki elektrotlu elektrokimyasal hücre ile gerçekleştirilmiştir. Kaplama işlemi, katodik kaplama akımı, süre, çözelti molaritesi ve sıcaklık gibi parametreler değiştirilerek ITO kaplı cam alttaban üzerine gerçekleştirilmiştir. Parametreler değiştirilerek optoelektonik uygulamalar için optimum saydam yarıiletken materyal üretilmeye çalışılmıştır. XRD yapısal karakterizasyon sonuçları, kaplama sıcaklığına ve molaritesine duyarlı polikristal ZnO nanorod yapıların c-ekseni boyunca büyüdüğünü göstermiştir. En iyi iki ZnO nanorod serisinin ortalama optik geçirgenliği sırasıyla %60 ve %42'dir. Kaplama zamanı arttıkça ZnO nanorodların optik enerji band aralık değerleri 3.24 eV değerinden 3.21 eV değerine doğru azalmıştır. Üretilen bütün nanorod yapılar 1 x 1020 cm-3 seviyesinde yüksek taşıyıcı konsantrasyonlu, 1-2x10-3 Ωcm değerinde düşük dirençli ve n-tipi yarıiletkendir.