Al/Al2O3ün sülfürik asit +glikol içerisinde değişik derişim ve potansiyelde geliştirilmesi

---

Tezin Türü: Yüksek Lisans

Tezin Yürütüldüğü Kurum: Çukurova Üniversitesi, Fen Bilimleri Enstitüsü, Kimya, Türkiye

Tezin Onay Tarihi: 2014

Tezin Dili: Türkçe

Öğrenci: SEVGİ ATEŞ

Asıl Danışman (Eş Danışmanlı Tezler İçin): BİRGÜL YAZICI

Açık Arşiv Koleksiyonu: AVESİS Açık Erişim Koleksiyonu

Özet:

Aluminyumun anodizasyon işlemi, metal yüzeyinde oluşan oksit tabakasının; homojen, kararlı ve dayanıklı olması için gerçekleştirilen kontrollü bir oksidasyondur. Oluşturulan Al2O3 tabakasının alüminyuma tutunması, alüminyum ile bütünleşerek oluşmasından dolayı mükemmel sonuç verir. Çok sert bir tabaka olan Al2O3 filmi,aşınmaya karşı çok dayanıklı olduğundan, alüminyuma üstün özellikler kazandırmaktadır. Bu çalışmada, sülfürik asit+ glikol çözeltisinde aluminyum'un yüzeyinde anodizing yöntemiyle oksit filminin (Al2O3) geliştirilmesi hedeflenmiştir. Uygun ortam koşulları (0,5 M Glikol derişimi, 2 V) belirlendikten sonra, 7075 aluminyum alaşımının yüzeyinde oluşturulan (Al2O3) filminin korozyon davranışları, % 3,5 NaCl içerisinde araştırılmıştır. Bu amaçla, elektrokimyasal impedans spektroskopisi (EIS), akım-potansiyel eğrileri ve taramalı elektron mikroskopu (SEM) görüntüleri elde edilmiştir. Elde edilen sonuçlara göre; 0,4 M H2SO4+0,5 M Glikol ortamında anodizing uygulanan alaşımlarda oluşturulan Al2O3 filminin korozyon dayanımı, çıplak 7075 aluminyuma göre daha yüksek olduğu belirlenmiştir.