The effect of nitrogen incorporation in DLC films deposited by ECR Microwave Plasma CVD


ŞEKER Z. , özdamar h., ESEN M. , ESEN R. , KAVAK H.

APPLIED SURFACE SCIENCE, cilt.314, ss.46-51, 2014 (SCI İndekslerine Giren Dergi) identifier identifier

  • Cilt numarası: 314
  • Basım Tarihi: 2014
  • Doi Numarası: 10.1016/j.apsusc.2014.06.137
  • Dergi Adı: APPLIED SURFACE SCIENCE
  • Sayfa Sayıları: ss.46-51

Özet

Polikristalin çinko nitrür filmler, darbeli filtreli katodik vakumlu ark biriktirme (PFCVAD) ile Corning 7059 cam substratlarında biriktirilir. Kristalografik yapı, x-ışını kırınımı yoluyla incelenmiştir. Bu ölçümler, tüm filmlerin (332) ve (631) yönleri boyunca tercih edilen bir yönde kübik yapıda kristalize olduğunu göstermektedir. Zayıf XRD sinyali, şekilsiz bir dokuda dağılmış küçük kristalitleri gösterir. Tavlama ile küçük bir kristallik gelişimi görülür. Absorpsiyon, enerji bandı aralığı, Urbach kuyruğu, sönme katsayıları gibi optik parametreler belirlenmiştir. Urbach kuyruk enerjisi, bir saat boyunca 500 ° C'de tavlama ile azaltılır. Enerji bandı boşluğu değerlerinin, tavlama ile arttırıldığı bulunmuştur.

 

Polycrystalline zinc nitride films are deposited on Corning 7059 glass substrates by pulsed filtered cathodic vacuum arc deposition (PFCVAD). The crystallographic structure is studied by means of x-ray diffraction. These measurements show that all the films are crystallized in the cubic structure, in a preferred orientation along the (332) and (631) directions. Weak XRD signal shows small crystallites distributed in an amorphous tissue. A small improvement of crystallinity is observed with annealing. Optical parameters such as absorption, energy band gap, Urbach tail, extinction coefficients have been determined. The Urbach tail energy is decreased with annealing at 500°C for one hour. Energy band gap values are found to be increased by annealing.